真空設(shè)備在半導(dǎo)體行業(yè)中的應(yīng)用愈來(lái)愈廣泛，例如真空鍍膜設(shè)備（蒸發(fā)，濺射），干法雷設(shè)備，熱處理設(shè)備（合金爐，退火爐），摻雜設(shè)備（離子注入機(jī)等）這些真空設(shè)備作為半導(dǎo)體技術(shù)發(fā)展不可或缺的條件必將起到越來(lái)越重要的作用。
真空設(shè)備在半導(dǎo)體行業(yè)中的應(yīng)用愈來(lái)愈廣泛，例如真空鍍膜設(shè)備（蒸發(fā)，濺射），干法雷設(shè)備（ICP,RIE,PECVD）,熱處理設(shè)備（合金爐，退火爐），摻雜設(shè)備（離子注入機(jī)等）這些真空設(shè)備作為半導(dǎo)體技術(shù)發(fā)展不可或缺的條件必將起到越來(lái)越重要的作用。氦質(zhì)譜檢漏儀現(xiàn)已廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體設(shè)備檢漏。
半導(dǎo)體設(shè)備及材料需要檢漏原因：
1、半導(dǎo)體設(shè)備要求高真空，比如磁控濺射臺(tái)、電子束蒸發(fā)臺(tái)、ICP、PECVD等設(shè)備。出現(xiàn)泄漏就會(huì)導(dǎo)致高真空達(dá)不到或需要大量的時(shí)間，耗時(shí)耗力；
2、在高真空環(huán)境潔凈度高、水蒸氣很少。一旦出現(xiàn)泄漏周圍環(huán)境中的灰塵和懸浮顆粒或塵埃就會(huì)對(duì)晶元造成污染，對(duì)半導(dǎo)體的特性改變并破壞其性能，因此在半導(dǎo)體器件生產(chǎn)過(guò)程中必須進(jìn)行氦質(zhì)譜檢漏；
3、一些半導(dǎo)體設(shè)備要用到有毒或有腐蝕性的特殊氣體，經(jīng)過(guò)氦質(zhì)譜檢漏后，在低漏率真空條件下，這些氣體不易外泄，設(shè)備能及時(shí)抽走未反應(yīng)氣體和氣態(tài)反應(yīng)產(chǎn)物，保障工作人員安全和大氣環(huán)境。
4、芯片封裝，一旦出現(xiàn)泄漏，芯片就會(huì)失效。
綜上所述， 氦質(zhì)譜檢漏儀在半導(dǎo)體行業(yè)起著至關(guān)重要的作用。
